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GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度,深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外,还采用了多项专利技术,如高动态检测器(HDD)可测试ppm-100%的浓度范围,专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。
技术参数
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑更为平坦、等离子体稳定时间更短,表面信息无任何失真。
2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。
3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有更大的光通量,因而拥有光效率和灵敏度。
5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm含量的元素。动态范围为5×1010。
6、宽大的样品室方便各类样品的加载。
7、Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。
8、HORIBA单色仪(选配)可极大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。
9、适用于ISO14707和16962标准。
*仅提供概要性产品信息,这些信息不得构成任何订单或合同的一部分或视为与相关产品或服务有关的陈述,本公司保留更改任何产品信息或服务的规格、设计或供应条款的权利
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