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应用案例
CASE
我们所有的设备都简单易用。几乎不需要样品制备;只需将少量待测油倒入样品杯中，并将其放入分析仪内即可。按下按钮开始测量，几分钟内即可获得结果。结果会显示在集成屏幕上，可以设置一个简单的合格或不合格选项，以简化程序。
测量离型膜上的硅涂布量是生产过程中质量控制的一个重要方面。如果涂覆的硅太少，则粘合层将永久地粘在基底上，而涂覆过多则会增加生产成本，且不会进一步提高产品质量。为了控制硅涂层厚度，行业通常使用台式X射线荧光(XRF)分析仪，例如，日立LAB-X5000，因为这些分析仪可提供经济、高效、可靠的无损分析。使用这些分析仪，操作员可快速调整生产过程，并有助于降低材料成本，同时提高产量。
光学发射光谱法(OES)是一种用于检测各种金属元素成分的分析技术，其应用广泛，备受信赖。可使用OES技术进行检测的样品包括金属熔液、金属半成品和成品，以及金属加工业、管材、螺栓、棒材、线材、板材等等。OES使用的电磁光谱包括可见光谱以及部分紫外光谱。波长范围为130nm到约800nm。
