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日立分析仪器推出新的FT160 XRF镀层分析仪
- 分类：行业动态
- 作者：
- 来源：
- 发布时间：2020-03-10 14:03
- 访问量：
【概要描述】日立高新技术公司(TSE：8036)的全资子公司日立分析仪器(HitachiHigh-Tech Analytical Science)致力于分析和测量仪器的制造和销售，现推出新型FT160XRF光谱仪，该分析仪提供三种基座配置选择方案用于纳米级镀层分析。 随着新型FT160系列在日本的推出，日立分析仪器目前在中国、北美、欧洲、中东和非洲销售FT160系列镀层分析仪并提供相关服务。日立推出的该款最新一代镀层分析仪旨在应对测量小型部件上的超薄镀层所带来的挑战。FT160是一种台式EDXRF(能量色散x射线荧光)分析仪，配有强大的软件和硬件，能实现高样品处理量，且任何操作员均能获取高质量结果。由于FT160系列专为在生产质量控制中发挥关键作用而设计，因此其可在半导体、电路板和电子元件市场中被广泛应用。 测量纳米级的镀层 FT160配置高端部件，可以提供精细结构上的超薄镀层的元素分析。毛细管聚焦光学镜能聚焦直径小于30μm的X射线束，从而在样品上集中更大强度且其可测量的部件尺寸小于传统准直器可测量的部件尺寸。高灵敏度、高分辨率日立分析仪器硅漂移探测器(SDD)充分利用光学系统测量微电子和半导体上的纳米级镀层。高精度样品台和具备数字变焦功能的高清摄像头可快速定位样件，以提高样品处理量。 日立分析仪器产品经理Matt Kreiner表示：“在之前产品的成功基础上所推出的FT160能提供重新设计的照明布置以提高零件的可视性并便于定位，且新的配置选择方案可确保特定应用的最佳性能并为繁忙的测试实验室提供新的紧凑型基座配置要素。该产品系列硬件和分析能力的不断发展使我们的客户更容易在快速发展的微电子领域控制生产。FT160是对我们镀层仪器综合系列的补充，这归功于日立45多年的XRF镀层分析仪的开发经验。”
日立分析仪器推出新的FT160 XRF镀层分析仪
【概要描述】日立高新技术公司(TSE：8036)的全资子公司日立分析仪器(HitachiHigh-Tech Analytical Science)致力于分析和测量仪器的制造和销售，现推出新型FT160XRF光谱仪，该分析仪提供三种基座配置选择方案用于纳米级镀层分析。
随着新型FT160系列在日本的推出，日立分析仪器目前在中国、北美、欧洲、中东和非洲销售FT160系列镀层分析仪并提供相关服务。日立推出的该款最新一代镀层分析仪旨在应对测量小型部件上的超薄镀层所带来的挑战。FT160是一种台式EDXRF(能量色散x射线荧光)分析仪，配有强大的软件和硬件，能实现高样品处理量，且任何操作员均能获取高质量结果。由于FT160系列专为在生产质量控制中发挥关键作用而设计，因此其可在半导体、电路板和电子元件市场中被广泛应用。
测量纳米级的镀层
FT160配置高端部件，可以提供精细结构上的超薄镀层的元素分析。毛细管聚焦光学镜能聚焦直径小于30μm的X射线束，从而在样品上集中更大强度且其可测量的部件尺寸小于传统准直器可测量的部件尺寸。高灵敏度、高分辨率日立分析仪器硅漂移探测器(SDD)充分利用光学系统测量微电子和半导体上的纳米级镀层。高精度样品台和具备数字变焦功能的高清摄像头可快速定位样件，以提高样品处理量。
日立分析仪器产品经理Matt Kreiner表示：“在之前产品的成功基础上所推出的FT160能提供重新设计的照明布置以提高零件的可视性并便于定位，且新的配置选择方案可确保特定应用的最佳性能并为繁忙的测试实验室提供新的紧凑型基座配置要素。该产品系列硬件和分析能力的不断发展使我们的客户更容易在快速发展的微电子领域控制生产。FT160是对我们镀层仪器综合系列的补充，这归功于日立45多年的XRF镀层分析仪的开发经验。”
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- 发布时间：2020-03-10 14:03
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日立高新技术公司(TSE：8036)的全资子公司日立分析仪器(HitachiHigh-Tech Analytical Science)致力于分析和测量仪器的制造和销售，现推出新型FT160XRF光谱仪，该分析仪提供三种基座配置选择方案用于纳米级镀层分析。
随着新型FT160系列在日本的推出，日立分析仪器目前在中国、北美、欧洲、中东和非洲销售FT160系列镀层分析仪并提供相关服务。日立推出的该款最新一代镀层分析仪旨在应对测量小型部件上的超薄镀层所带来的挑战。FT160是一种台式EDXRF(能量色散x射线荧光)分析仪，配有强大的软件和硬件，能实现高样品处理量，且任何操作员均能获取高质量结果。由于FT160系列专为在生产质量控制中发挥关键作用而设计，因此其可在半导体、电路板和电子元件市场中被广泛应用。
测量纳米级的镀层
FT160配置高端部件，可以提供精细结构上的超薄镀层的元素分析。毛细管聚焦光学镜能聚焦直径小于30μm的X射线束，从而在样品上集中更大强度且其可测量的部件尺寸小于传统准直器可测量的部件尺寸。高灵敏度、高分辨率日立分析仪器硅漂移探测器(SDD)充分利用光学系统测量微电子和半导体上的纳米级镀层。高精度样品台和具备数字变焦功能的高清摄像头可快速定位样件，以提高样品处理量。
日立分析仪器产品经理Matt Kreiner表示：“在之前产品的成功基础上所推出的FT160能提供重新设计的照明布置以提高零件的可视性并便于定位，且新的配置选择方案可确保特定应用的最佳性能并为繁忙的测试实验室提供新的紧凑型基座配置要素。该产品系列硬件和分析能力的不断发展使我们的客户更容易在快速发展的微电子领域控制生产。FT160是对我们镀层仪器综合系列的补充，这归功于日立45多年的XRF镀层分析仪的开发经验。”
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