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Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下流行的触摸屏控制,简单方便。
为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,配置溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。
理想重现的结果
运行自动化的进程,并协助参数设置。
小巧紧凑
设计紧凑,占地面积小节省了实验室空间。
容易清洗
具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。
操作简便
直观的触摸屏和一键式操作。
主要技术参数
• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
• 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可控制碳膜厚度
• 可选石英膜厚检测器,控制镀膜厚度,精度达0.1nm
• 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
• 触摸屏控制,简单方便
• 真空度≤7×10 -3 mbar
• 溅射电流:0-150mA可调
• 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
• 工作距离调节范围:30mm-100mm
*仅提供概要性产品信息,这些信息不得构成任何订单或合同的一部分或视为与相关产品或服务有关的陈述,本公司保留更改任何产品信息或服务的规格、设计或供应条款的权利
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