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低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

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Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下流行的触摸屏控制,简单方便。

 

主要技术参数

• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

• 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可控制碳膜厚度

• 可选石英膜厚检测器,控制镀膜厚度,精度达0.1nm

• 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

• 触摸屏控制,简单方便

• 真空度≤7×10 -3 mbar

• 溅射电流:0-150mA可调

• 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)

• 工作距离调节范围:30mm-100mm

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