Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下流行的触摸屏控制，简单方便。

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，配置溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。

理想重现的结果
运行自动化的进程，并协助参数设置。
小巧紧凑
设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。
容易清洗
具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。
操作简便
直观的触摸屏和一键式操作。

主要技术参数
• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
• 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可控制碳膜厚度
• 可选石英膜厚检测器，控制镀膜厚度，精度达0.1nm
• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
• 触摸屏控制，简单方便
• 真空度≤7×10 -3 mbar
• 溅射电流：0-150mA可调
• 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
• 工作距离调节范围：30mm-100mm

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