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应用案例
CASE
热电材料是一种能将热能和电能相互转换的功能材料，有着广泛应用前景，在环境污染和能源危机日益严重的今天，进行新型热电材料的研究具有很强的现实意义。SnSe-ReCl是其中一种热电材料，其微观结构主要依靠高分辨率透射电镜来获得。良好的样品制备是获得高分辨率清晰透射电镜图像的必要前提，而离子减薄则是无机脆性材料的透射电镜样品制备主要方法之一。
在这篇文章中，您可以了解到如何通过使用EM TIC 3X离子束研磨仪的离子束蚀刻工艺来优化样品的制备质量。文中简介了EM TIC 3X仪器特性，以此解释如何灵活地将该设备应用于各类研究领域的样本制备工作中。本文将帮助读者了解离子束刻蚀工艺的基本原理
效率和灵活性——徕卡三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X
新版 EM TIC 3X 恪守我们的格言：与用户合作，使用户受益”，以注重实用性的方式将性能和灵活性理想融合。全新的 EM TIC 3X 切割速度翻倍，根据您的应用需求提供五种不同的载物台供您选择，实用性得到进一步提升。
扫描电镜，如果要看到样品内部结构，往往需要样品制备，然而通过传统的机械切割研磨方式往往造成应力损伤层，在SEM下看到的几乎全是假象，而无应力切割技术可有效制备样品获得真实内部结构。徕卡提供独家的三离子束切割及抛光技术，几乎适用于各类样品，获得样品真实内部结构。并且操作极其简单。 主讲人：童艳丽 科普：离子束技术，离子束以α角度倾斜轰击到样品表面，通过撞击作用，将样品的原子以相反的角度撞击出去，从而达到抛光或者减薄的效果。 三离子束技术 EM TIC 3X搭载了三离子束制样技术，与传统的单个离子束制样不同，徕卡通过将三把离子枪轰击同一个方向以达到制样效果。 三离子束优势： 离子束轰击样品时产生热效应，通过热传导与基底接触，由此使得样品无需运动 在离子束轰击时能清晰观看到样品 几乎无再沉积效应 几乎无假象EM TIC 3X不仅在离子束的数量上与众不同，运用的离子也与聚焦离子束技术的不同。徕卡离子束运用的是惰性气体的氩离子，通过离子枪将氩气离子化之后，制造出离子束，离子束在对样品进行加工。 氩离子束切割技术优势 与FIB(聚焦离子束)技术相比可获得非常大的切割区域 几乎各类材料都可获得清洁的截面(无Ga离子注入) 获得的截面，适宜扫描电子显微镜(SEM)中元素能谱分析(EDS)，波谱分析(WDS)，俄歇分析(Auger)及分析晶体取向的背射散电子衍射分析(EBSD) 对前期制样要求很低 1：SiC 研磨纸的横切面 l 2：胶合板的横切面 l 3：-120°C 条件下制备的同轴聚合物纤维 (溶于水) l 4：通过 Leica EM TIC 3X (配旋转载物台) 处理展现的油页岩 (纳米孔)，总样品直径为 25 mm 在使用 Leica EM TIC 3X 之前，通常需要进行机械准备工作，以便尽可能接近感兴趣区域。Leica EM TXP 是一种独特的标靶面抛光系统，开发用于样品的切割和抛光，为 Leica EM TIC 3X 等仪器进行后续技术处理做好充分准备。 Leica EM TXP 经专业设计，利用锯切、铣削、研磨和抛光技术对样品进行预制。 对于需要准确定位以及难以制备的挑战性样品，它能提供优异的结果，令处理变得轻松简单。
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